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ガス循環精製装置

ガス循環精製装置

製品情報【グローブボックス関連装置|ガス循環精製装置】

特長・用途・目的

ガス循環精製装置
特長 ■循環風量:24m³/h、48m³/h、150m³/h
■水分除去:モレキュラーシーブ
■酸素除去:酸素吸着(ニッケル、銅)、貴金属触媒(パラジウム、白金)
■酸素・水分濃度1ppm以下
■当社製グローブボックスだけでなく他社製にも連結可能
用途 二次電池:自動車、電池、エネルギー
太陽光発電パネル:エネルギー、住宅
有機EL照明:住宅、照明、電機
医薬・薬品・化学合成:製薬、化学
磁性材料:モーター、金属精錬
目的 グローブボックスの水分・酸素を除去

標準仕様

精製塔数 シングルカラム(オプション:ダブルカラム)
到達濃度 酸素濃度・水分濃度 1ppm以下
(0.5ppm以下も製作可能)
酸素除去剤 酸素吸着剤:ニッケル触媒(オプション:銅触媒)
貴金属触媒:パラジウム触媒(オプション:白金触媒)
水分吸着剤 モレキュラシーブ
使用ガス アルゴン・窒素
再生ガス ニッケル触媒:3~10%の水素を含んだ不活性ガス
パラジウム触媒:再生ガス不要
真空ポンプ 150L/min(大亜真空製 GHP-150B)
バルブ エア駆動バルブ(PLC制御)
冷却水 3~5L/min(機種による)
定格電源 単相 100V 15A
三相 200V 3.5kVA

ラインナップ

型式 V□△-24
回路 △=シングルカラム(S) ダブルカラム(T)
循環風量(㎥/h) 24
推奨ボックスサイズ(L) 800~1200
酸素濃度 ※1.0ppm以下〔0.5ppm以下も製作可能〕
酸素除去剤 □=酸素吸着材 N(ニッケル)/C(銅) 貴金属触媒Pd(パラジウム)/Pt(白金)
水分濃度 ※1.0ppm以下(霜点-76℃以下)〔0.5ppm以下も製作可能〕
水分吸着材 モレキュラシーブ

型式 V□△-48
回路 △=シングルカラム(S) ダブルカラム(T)
循環風量(㎥/h) 48
推奨ボックスサイズ(L) 1600~2400
酸素濃度 ※1.0ppm以下〔0.5ppm以下も製作可能〕
酸素除去剤 □=酸素吸着材 N(ニッケル)/C(銅) 貴金属触媒Pd(パラジウム)/Pt(白金)
水分濃度 ※1.0ppm以下(霜点-76℃以下)〔0.5ppm以下も製作可能〕
水分吸着材 モレキュラシーブ

型式 V□T-150
回路 ダブルカラム
循環風量(㎥/h) 150
推奨ボックスサイズ(L) 5000~7500
酸素濃度 ※1.0ppm以下〔0.5ppm以下も製作可能〕
酸素除去剤 □=酸素吸着材 N(ニッケル)/C(銅) 貴金属触媒Pd(パラジウム)/Pt(白金)
水分濃度 ※1.0ppm以下(霜点-76℃以下)〔0.5ppm以下も製作可能〕
水分吸着材 モレキュラシーブ

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